兆里國際專利商標事務所

日本特許廳在2月23日，與美國專利商標局之間，簽訂了關於兩局的智慧財產分野(發明專利及設計)分類合作之備忘錄。日本特許廳推進有關分類之合作，使日本申請人可於美國取得更安定之權利，將環境整備向前邁進。

1.背景

發明專利及設計的文獻，為了區分已申請技術及設計之領域而被附上｢分類｣。分類是為了有效率地進行發明及設計之先前文獻調查的重要工具，現在日本特許廳及美國專利商標局分別採用獨自的分類。在發明專利分野中，日本特許廳及美國專利商標局於2015年3月確認強化有關發明專利分類之合作後，目前對具體的合作內容達成合意。

另外，在設計分野中，日本特許廳及美國專利商標局，根據前年所定期舉辨的有關設計分類之專業人士會見，對於各自的設計分類深入理解之後，目前首次對於開始有關設計分類之合作一事達成合意。

2.合作內容

(1)關於發明專利分類

日本特許廳利用日本獨自的分類及檢索索引(F-TERM)進行先前文獻調查，其有用性獲得外國專利局所評價。本合作為在日本所採用專利分類(FI分類)及美國所採用專利分類(CPC分類)內一致的技術分野中，組合日本獨自的檢索索引於美國專利分類中。藉此，美國專利商標局之審查官可使用與日本特許廳之審查官相同的檢索索引，進行日本特許廳所發行專利文獻之檢索一事成為可能。首先，以2016年6月為目標，實施於五分野(剛性構造之儲藏櫃/架子、雜環化合物/heterocyclic compound、防火用物質、文書處理裝置、超電導發電機/電動機)的試行，其後進行檢討關於5分野以外之擴大。透過本合作，提升在美國專利商標局中日本特許廳所發行之專利文獻的檢索精度，日本企業在美國可取得更加安定之專利權一事將備受期待。

(2)關於設計分類

本合作在關於兩局設計分類體系的使用/運用上，更加推進其情報共享，另外，也進行日美的設計分類間之對照表製作等。與作為日本申請人之重要申請國美國之間，透過進行以上努力，提升先前設計調查之效率一事將備受期待。

(3)今後致力方向

日本特許廳強化日美間之合作關係，使日本申請人可於美國取得安定之權利，將持續推進著環境整備。

以上資料來源：

日本特許廳

http://www.meti.go.jp/press/2015/02/20160225002/20160225002.html

關鍵詞：日本、美國、FI、CPC、專利、設計

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