兆里國際專利商標事務所

2015年12月1日及2日，在美國/亞歷山卓(America/Alexandria)舉行了日美歐中韓之第4回商標五廳會見，本次會見以日本主導，使用商標的國際申請制度並彙整了各廳在國際申請時有用的程序指引，得到各廳的承認，另外，關於所謂｢惡意商標申請｣，今後，製作各廳之事例集等，採取了合併共計13個計劃成果之共同聲明。

1.背景：

經濟全球化的進行，企業間之競爭於國際上也日益激烈的現今，在世界各國能快速取得安定的商標權，整備適當保護環境為不可欠缺的一環。在此狀況下，從2012年，日本特許廳(JPO)致力與韓國專利局(KIPO)、歐洲共同體商標設計廳(OHIM)、中國國家工商行政管理總局(SAIC)、美國專利商標局(USPTO)所共同形成商標五廳(TM5)之架構中，以各國企業商標在世界各國可受到適當保護並活用之環境整備為目的之國際合作，在第4回的會見中，進行了關於11個共同計劃及2個新計畫之議論。

2.本次會見之主要成果：

(1)國際商標申請之便利性提升計畫

商標進行國際申請時(利用馬德里議定書之國際申請)，隨著尋求保護國家的不同，由於各國國內程序及語言不同，申請人要能取得必要資訊變得困難，此次，以JPO為主導，彙整了有關各廳申請程序之資訊指引，並獲得各廳的承認，今後會在TM5網站上公布本次指引，以及作為接下來的活動，與世界智慧財產權組織(WIPO)合作，持續提供關於TM5以外國家之資訊等，並對有關情報提供之擴充及其有效的活用方法持續檢討一事達成合意，國際商標申請便利性之提升將備受期待。

(2)惡意商標申請之對策計畫

有名商標及地名被海外無關之第三者擅自進行商標申請及註冊，也就是所謂｢惡意商標申請｣成為世界性的問題。此次，關於｢惡意商標申請｣，製作了各廳最新之事例集，以及將各廳最新之事例集廣泛地與使用者共享，並對2016年3月在東京舉行惡意商標申請之事例介紹說明會一事達成合意。

3.今後努力方向：

日本特許廳朝著日本企業商標在世界各國可受到適當保護並活用之環境整備，持續推動著TM5架構下之國際合作。

以上資料來源：

日本特許廳

http://www.meti.go.jp/press/2015/12/20151203001/20151203001.html

關鍵詞：日本、TM5、惡意商標、國際、申請

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